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I-Clean
CO2 cleaning System
CO2 세정시스템은 통상 2~3일 소요되던 처리시간을 1시간 이내로 줄여주고 기존 처리과정과 동등하거나 더 나은 NVR 수준을 달성해 줍니다.
어떤 물질을 추출하거나 까다로운 세정을 위해 헥산과 같은 위험한 솔벤트를 사용하고 있습니까?
이들에 대한 대안과 관련, 문의하시기 바랍니다.
어떤 물질을 추출하거나 까다로운 세정을 위해 헥산과 같은 위험한 솔벤트를 사용하고 있습니까?
이들에 대한 대안과 관련, 문의하시기 바랍니다.
적용 예
- * HDD, 정밀전자기기 부품, 센서 건식세정
- * 기계부품,베어링으로부터 오일,그리스 제거
- * 세라믹 기판으로부터 이물질 추출
- * Flip-Chip / BGA 조립품으로부터 Flux 제거
- * 진공 구성물의 추출 의료용 기기, 의류의 세척.
- * 성형 실리콘의 추출